我們的競爭對手喜歡想方設法讓他們的產(chǎn)品看起來比我們的性能更好。 最近，我們收到了一些關于 QUV 輻照度均勻性的問題，因為我們的競爭對手發(fā)布了他們的熒光 UV 測試儀輻照度均勻性參 數(shù)。

他們聲稱，他們的熒光紫外線測試儀"在樣本表面的輻照度均勻度為   4%"。

但是 “ Over the Surface of the sample" 是什么意思?

我們的 競爭對 手喜 歡吹噓 他們 4%的 “ 輻照度 均勻 性"規(guī) 范， 但他們 傾向于 淡化 4%的實 際含 義。首 先，他們 使用了 不正確 的術語 。他們 要么說 一致性是 96 %，要 么說非 一致性 是 4%。其 次，這 個值不 是整個腔 室的均 勻性， 甚至也 不是腔 室某一 側的均 勻性。 它只是 說，在 6.35 × 9.53 厘米 (2.5 × 3.75 英寸)的面積上，輻照度不均勻性為 4%。這種 說法誤 導了很 多客戶 。

再加上，樣品表面的均勻性對機械評價(如光澤或顏色)影響不大。在進行這些測量時，通常會對 標本的中心部分進行評估，因此外邊緣對測量的影響非常小。所以說真的，這是一個愚蠢的規(guī) 范，因為它對評估幾乎沒有影響。不管怎樣，我們在標本的表面上確實有相同的輻照度均勻 性，所以那里沒有問題。

那么 QUV  中真實的輻照度均勻度是多少?

雖然 QUV 樣品表面的輻照度均勻度與我們的競爭對手相似，但我們可以提供更多的信息。除了樣品 表面的均勻性外，當你排除設備邊緣的樣品支架時，我們可以擁有大于   90%的整體輻照度均勻性。

但 是 設備邊緣的 支架呢?

在 QUV 邊緣的輻照度均勻度 下降到 80%以下， 但這是基于 物理和幾何 的限制， 適用于所有 熒光紫外 測試儀。

熒光紫外線燈發(fā)出的光貫穿整個長度。標本的大部分光線來自燈的最近部分，但它們也暴露在來自標本 左側和右側的燈部分的光線下。

測試器左側的 樣品不會暴 露在來自 左側的光線 下，因為 燈不會進 一步延伸到 左側。同 樣，位于測 試儀 右側的標本也不會暴露在來自右側的光線下。圖  1   是這種效果的圖解演示。

圖 1:靠 近 燈端部的樣品被暴露在較低的輻照度下的示例

那 么 應 該 使用哪些 標本位置呢 ?

盡管 末端 位 置的 輻照 度略 低 ，但 我們 的 政策 是所 有 標本 位置 都 可以 使用 ，但 強 烈推 薦標 本 重新 定位 (參見 Q-Tip 21， “標本重 新定位是 最佳實踐 ")。如果客 戶不想重 新定位標 本或要求 所有位置 的輻照 度均勻度為>90%， 那么他們可 以選擇將 末端的標本 夾留空。

溫 度均勻性如何?

我們最近也有一些關于 QUV 溫度 均勻 性的 問題。 通過 正確 的安 裝和樣 品安 裝， Q UV 內(nèi)的 溫度 均勻 性非常好。

客戶 避免 在 末端 或標 本之 間 出現(xiàn) 任何 間 隙是 非常 重要 的 。這 些縫 隙 會導 致空 氣 沖出 腔室 ，從 而 導致 相鄰試樣冷卻，并在其他位置產(chǎn)生熱 點。

結論

當客戶要求 QUV 的一致性時，正確地提出這個問題是很重要 的。他們問的是輻照度還是溫度均勻 性?他們測量的均勻度是在哪個區(qū)域?我 們更喜歡使用箱體內(nèi)輻照度均勻 度，而不是樣品表面的均勻度 ，這 在QUV  中是非常好的(>90%)。

雖然 QUV 輻 照度均勻性 很好，但 物理和幾 何定律限制 了燈具兩 端的輻照度 。我們建 議通過利 用標本 重新定位來克服這一限制，這也提高了水噴霧和溫度均勻  性。

最后，在進行溫度測量時，正確安裝標本支架是很重要的。有可能用來測量溫度的設備實際上降 低了測試儀的溫度均勻性!